PERET事例閲覧

Case Study

浮彫り研磨マスク研磨

セラミックスコンデンサの内部分析事例

・セラミックスコンデンサの内部構造や欠陥及び材質などの評価を行う。
・各層や界面部の観察・分析。
・欠陥部分の露出。

断面出し研磨の課題

・金属の流れ等が発生し層間の区別が難しい。
・断面出し研磨に技能が必要で作業が難しい。
・イオンミリングでも各層が明確に見えない。

断面イオンミリング x5,000

全体バフ研磨後に半分マスクして斜め研磨をした。

［研磨条件］	粒子多角アルミナ0.3µm 高高速で20min研磨後、低速の仕上げで5min研磨
［参考表面粗さ］	電極と誘電体の研磨速度差に依存
［中央深さ］	5µm
［研磨表面形状］	中央部が深い斜め研磨

観察
・バフ研磨とＰＥＲＥＴ研磨の研磨面が明確に異なっている。

A-A 断面形状プロファイル

中心に向かって深くなるPERET研磨痕の一部を拡大して内部と表面部を比較した。

青枠部と赤枠部をそれぞれ拡大観察

① バフ研磨面　x2,000

・電極と誘電体の区別がわかりにくい。
・誘電体内部の空孔等の特定が難しい。

② バフ研磨後にPERET研磨　x2,000

・電極が浮彫にされている。
・電極が千切れちぎれになっている。
・空孔の存在が明確に示されている。

※PDFをご希望の方は、フォームに必要事項をご記入の上送信いただくとダウンロードが可能になります。